Graus de puresa objectiu de niobi MH disponibles

99,95% (4N) Objectiu de niobi

● Puresa ultra-elevada amb impureses metàl·liques i gasoses extremadament baixes

● Plasma estable, baixa generació de partícules

● Adequat per a pel·lícules electròniques de semiconductors, superconductores i{0}}de gamma alta

99,9% (3N) Objectiu de niobi

● Alta puresa amb una excel·lent relació cost-rendiment

● Estabilitat fiable de la catòdica catòdica per a aplicacions de recobriment industrial

● Apte per a recobriments electrònics, òptics i funcionals generals

Formes de diana de niobi MH

Subministrem objectius de niobi en múltiples geometries per adaptar-se a diferents sistemes de pulverització:

Target rectangular/quadrat

● Sistemes de pulverització plana

● Càtodes de polverització de magnetrons

● Deposició de pel·lícula uniforme de gran-àrea

Objectiu tubular

● Sistemes de pulverització rotativa

● Taxa d'utilització objectiu més alta

● Millora de la uniformitat del recobriment i l'eficiència de la producció

(Dimensions personalitzades i opcions d'unió disponibles a petició.)

Gamma d'especificacions de l'objectiu de niobi MH

Puresa	99.9%, 99.95%
Densitat	Superior o igual al 99,9% de la densitat teòrica
Estructura del gra	Fins i uniformes
Acabat superficial	Ra0,4
Target rectangular/quadrat	Longitud inferior o igual a 3000 mm, amplada inferior o igual a 800 mm, gruix (mm) 1 ~ 20 mm
Objectiu tubular	Diàmetre exterior 10-400 mm, paret 2-28 mm

99,95% vs 99,9% - Guia de selecció

Article	99,95% Nb Objectiu	99,9% Nb Objectiu
Nivell de puresa	Ultra-puresa (4N)	Alta puresa (3N)
Contingut d'impuresa	Extremadament baix	Baixa
Qualitat cinematogràfica	Màxima uniformitat i estabilitat	Estable, de grau{0}}industrial
Generació de partícules	Mínim	Baixa
Aplicacions típiques	Semiconductors, pel·lícules superconductores, R+D	Recobriments òptics, pel·lícules funcionals, producció en sèrie
Nivell de costos	Més alt	Més econòmic

Objectiu rectangular vs tubular - Guia de selecció

Comparació	Target rectangular/quadrat	Objectiu tubular
Compatibilitat de processos	Sputtering Planar, Sputtering Magnetron	Sputtering cilíndric
Ús de material	20%~30%	70%~85%
Cost d'adquisició	Moderat	Molt més alt que els objectius de placa
Eficiència de producció	Lots petits, recobriments de diverses-varietats	Grans lots i recobriments continus
Tractament superficial	Mòlta fina i polit	Mòlta fina, més difícil
Materials proposats	Niobi pur (99,95%), Nb-1Zr	Niobi pur (99,95%), Nb-1Zr (propòsit especial d'alta temperatura)

Aplicacions típiques de niobi MH

Pel·lícules primes semiconductors

Recobriments de niobi superconductors

Recobriments òptics i decoratius

Pantalla i dispositius electrònics

Investigació i pel·lícules funcionals avançades

Per què triar objectius de niobi MH

● Alta puresa i rendiment estable de pulverització

● Microestructura uniforme i alta densitat

● Múltiples geometries disponibles: rectangular i tubular

● Dimensions personalitzades i solucions d'unió

● Ús provat en aplicacions de recobriment avançat

Els nostres objectius de pulverització de niobi ofereixen una puresa fiable, un comportament de pulverització constant i un rendiment de pel·lícula d'alta-qualitat per a aplicacions exigents de pel·lícula fina.